極低畸變，高性能設計

專為滿足微距精確成像設計，

工作距離：65-206.4mm

1200萬高圖元 

大靶面，可配IMX253LLR晶片（1.1英寸 12M)

倍率範圍：0.1×-0.4× 

極低畸變，高性能設計，

專為滿足微距精確成像設計，

工作距離：59-150mm

1200萬高圖元 

大靶面，可配IMX253LLR晶片（1.1英寸 12M)

倍率範圍：0.25×-0.7× 

極低畸變、高性能設計

專為滿足微距精確成像設計，

工作距離：95.4-132.4mm

1200萬高圖元 

大靶面，可配IMX253LLR晶片（1.1英寸 12M)

倍率範圍：0.5×-0.8× 

極低畸變、高性能設計

專為滿足微距精確成像設計，

工作距離：257-471mm

1200萬高圖元 

大靶面，可配IMX253LLR晶片（1.1英寸 12M)

倍率範圍：0.18×-0.38×